[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200310120944.4 | 申请日： | 2003-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN1501172A | 公开（公告）日： | 2004-06-02 |
| 发明（设计）人： | A·T·A·M·德克森;S·N·L·当德斯;C·A·胡根达姆;J·洛夫;E·R·鲁普斯特拉;J·J·S·M·梅坦斯;J·C·H·穆肯斯;T·F·森格斯;A·斯特拉艾杰;B·斯特里夫克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黄力行 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在光刻投射装置中，液体供给系统将液体保持在投射系统最终元件与光刻投射装置的基底之间。在基底交换的过程中，提供一个遮光构件以代替基底将液体容纳在液体供给系统中。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统。用于向所述投射系统的最终元件和所述基底之间的空间提供浸没液体的液体供给系统；其特征在于所述装置还包括当所述基底从所述投射系统下移开时，用于保持所述最终元件与液体接触的装置。
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