[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200310120957.1 | 申请日： | 2003-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN1501173A | 公开（公告）日： | 2004-06-02 |
| 发明（设计）人： | J·洛夫;A·T·A·M·德克森;C·A·胡根达姆;A·科勒斯伊辰科;E·R·鲁普斯特拉;T·M·默德曼;J·C·H·穆肯斯;R·A·S·里特塞马;K·西蒙;J·T·德斯米特;A·斯特拉艾杰;B·斯特里夫克;H·范桑坦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黄力行 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在光刻投射装置中，密封构件围绕投射系统的末端元件和光刻投射装置基底台之间间隙。气密封在所述密封构件和所述基底的表面之间形成，以容纳间隙中的液体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投射装置，包括：-用于提供辐射投射光束的辐射系统；-用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；-用于保持基底的基底台；-用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；-用于至少部分地将所述投射系统的末端元件和所述基底之间的间隙填充液体的液体供给系统，特征在于所述液体供给系统包括：-在沿所述投射系统末端元件和所述基底台之间的所述间隙的边缘的至少一部分延伸的密封构件；-用于在所述密封构件和所述基底表面之间形成气密封的气密封装置。
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