[发明专利]光刻装置，镜元件，器件制造方法，及束传送系统

摘要

一种光刻投影装置包括：一辐射系统，用来提供辐射投影束；一支撑结构，用来支撑作装置，后者用来按所需图形对投影束作图；一衬底台，用于保持衬底；一投影系统，用于将作图的束投影到衬底的目标部分上；一照明系统，用来调整辐射束以提供一个调整好的辐射束，使它能照明作图装置；和一束传送系统，它包含一些改变方向的元件，用来改变投影束的方向并将它从辐射系统传送至照明系统。该辐射束安置成具有预定的极化态，那些改变方向的元件安置成提供相对于该辐射束预定极化态的最小的辐射损耗。

主权项

1.一种光刻装置，包括：-一辐射系统，用来提供辐射投影束；-一支撑结构，用来支撑作图装置，该作图装置用于按所需的图形对投影束作图；-一衬底台，用来保持衬底；-一投影系统，用来将已作图的束投影到衬底的目标部分上；该辐射系统还包括：一照明系统，用来调整辐射束，以提供一已调整的辐射投影束，使它能为作图装置照明；一束传送系统，包括一些改变方向的元件，用以改变束的方向并将束从辐射源传送至照明系统；其特征在于：该辐射源被安置成能提供具有预定极化态的束，而改变方向的元件被安置成能相对于辐射束的预定极化态提供最小的辐射损耗。