[发明专利]浸没式微影制程以及应用于浸没式微影制程的结构

摘要

本发明涉及一种浸没式微影制程，首先在材料层上形成有光阻层，并且在光阻层上形成有阻隔层。接着，进行浸没式曝光步骤，以在光阻层中形成有曝光区以及未曝光区。之后，进行处理步骤，以改变光阻层曝光区上方的阻隔层的性质。随后，进行显影步骤，以移除光阻层曝光区及其上方的阻隔层。由于本发明在光阻层顶部覆盖有阻隔层，因此在进行浸泡式曝光步骤时，光阻层中物质就不会扩散至浸没液中而造成污染。而且，上述阻隔层可以在进行显影步骤中一并图案化，因此可以省去移除阻隔层的步骤，进而简化制程。

主权项

1.一种浸没式微影制程，包括：在材料层上形成有光阻层；在所述光阻层上形成有阻隔层；进行浸没式曝光步骤(immersion exposure)，以在所述光阻层中形成有曝光区(exposed area)以及未曝光区(non-exposed area)；进行处理步骤，以改变所述光阻层的所述曝光区上方的所述阻隔层的性质；以及进行显影步骤，以移除所述光阻层的所述曝光区及其上方的所述阻隔层。