[发明专利]水溶性负型光阻及其形成光阻图案的方法有效
| 申请号： | 200310122533.9 | 申请日： | 2003-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN1573540A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 何邦庆;陈建宏;高野洋介;卢炳宏 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司;瑞士商科莱恩国际股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;H01L21/027;G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑特强 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种水溶性负型光阻及其形成光阻图案的方法，该水溶性负型光阻至少包括聚合物、光活性化合物、抑制剂、交链剂、以及溶剂。由于此水溶性负型光阻不会与之前形成的光阻层互相混合，在曝光之后即可用去离子水来显影出预定的光阻图案。本发明提供的该形成光阻图案的方法，应用此水溶性负型光阻于构装与解除(Packing AndUnpacking；PAU)的光罩组合的方式，可增加聚焦深度(Depth OfFocus；DOF)，降低光罩误差系数(Mask Error Factor；MEF)，并缩小洞与洞的分离率(Hole－to－separation Ratio)，进而达到提高聚焦深度及降低光罩误差系数的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 水溶性 负型光阻 及其 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种水溶性负型光阻，其特征在于，至少包括：一聚合物，其中该聚合物为一水溶性聚合物；一光活性化合物(Photo-Active Compound)，其中该光活性化合物为一水溶性光酸产生剂(Photo Acid Generator；PAG)，且该光活性化合物占该水溶性负型光阻的一重量百分比介于0.01％至0.1％之间；一抑制剂(Quencher)，其中该抑制剂为一水溶性胺类(Amine)；一交链剂(Crosslinking Agent)，其中该交链剂为一水溶性交链剂；以及一溶剂，其中该溶剂至少包括一去离子水(De-Ionized Water；DIW)。
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