[发明专利]磁阻效应元件、磁头和磁存储装置有效
申请号: | 200310122542.8 | 申请日: | 1998-04-03 |
公开(公告)号: | CN1523575A | 公开(公告)日: | 2004-08-25 |
发明(设计)人: | 福家广见;齐藤和浩;中村新一;岩崎仁志;佐桥政司 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G11B5/39 | 分类号: | G11B5/39;G01R33/09 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 叶恺东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种磁阻效应元件、磁头和磁存储装置,其中,所述磁阻效应元件;其特征在于,具备强磁性膜和以一般式:RXMn100-X,式中,R是选自Ir、Rh、Pt、Au、Ag、Co、Pd、Ni、Cr、Ge、Ru、Re和Cu中的至少一种,X满足2≤X≤80,或者一般式:(RX’Mn1-X’)100-YFeY,式中,R是选自Ir、Rh、Pt、Au、Ag、Co、Pd、Ni、Cr、Ge、Ru、Re和Cu中的至少一种,X’满足0.02≤X’≤0.80,Y满足0<Y<30所表示的反强磁性膜,上述反强磁性膜具有进行面内取向,而且与上述强磁性膜进行交换结合而构成的交换结合膜;和用以将电流对上述交换结合膜通电的电极。 | ||
搜索关键词: | 磁阻 效应 元件 磁头 存储 装置 | ||
【主权项】:
1.一种磁阻效应元件;其特征在于,具备强磁性膜和以一般式:RXMn100-X’式中,R是选自Ir、Rh、Pt、Au、Ag、Co、Pd、Ni、Cr、Ge、Ru、Re和Cu中的至少一种,X满足2≤X≤80,或者一般式:(RX’,Mn1-X’)100-YFeY 式中,R是选自Ir、Rh、Pt、Au、Ag、Co、Pd、Ni、Cr、Ge、Ru、Re和Cu中的至少一种,X’满足0.02≤X’≤0.80,Y满足0<Y<30所表示的反强磁性膜,上述反强磁性膜具有进行面内取向,而且与上述强磁性膜进行交换结合而构成的交换结合膜;和用以将电流对上述交换结合膜通电的电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200310122542.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:磁头、磁性编码器、硬盘装置和盘阵列装置
- 下一篇:磁头组装体的装配结构