[发明专利]一种刻槽型爆破片的制造方法无效
申请号: | 200310122912.8 | 申请日: | 2003-12-29 |
公开(公告)号: | CN1635292A | 公开(公告)日: | 2005-07-06 |
发明(设计)人: | 胡国传;顾雪铭;杨秀霞;龚崇文;郝苓华;丁起国 | 申请(专利权)人: | 上海华理安全装备有限公司 |
主分类号: | F16K17/16 | 分类号: | F16K17/16 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 赵志远 |
地址: | 20023*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种刻槽型爆破片的制造方法,该方法包括领料、落料、制坯、成型并刻槽、热处理消除应力等工艺步骤,所述的成型压力为2.0~25.0MPa,所述的刻槽压力为4.0~50MPa,且刻槽为带压刻槽,所述的热处理温度为120~400℃。与现有技术相比,本发明具有工艺简单、生产成本低、产品性能好等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 刻槽型 爆破 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种刻槽型爆破片的制造方法,其特征在于,该方法包括以下工艺步骤:领料、落料、制坯、成型并刻槽、热处理消除应力,所述的成型压力为2.0~25.0MPa,所述的刻槽压力为4.0~50MPa,且刻槽为带压刻槽,所述的热处理温度为120~400℃。
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