[发明专利]测量薄层厚度的设备有效
| 申请号： | 200310123119.X | 申请日： | 2003-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN1508513A | 公开（公告）日： | 2004-06-30 |
| 发明（设计）人： | 发明人请求不公开其姓名 | 申请（专利权）人： | 赫尔穆特菲舍尔房地产有限及两合公司 |
| 主分类号： | G01B15/02 | 分类号： | G01B15/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张金熹 |
| 地址： | 联邦德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及了采用一个发射射向待测量层的X射线的X射线管(12)、依靠X射线测量薄层厚度的一个设备，设备具有至少一个设在X射线管(12)和待测量层之间的孔径装置(17)，孔径装置(17)包括一个吸收X射线的区域(26)和具有一个孔径开口(28)，其中在孔径装置(17)中至少一个孔径开口(28)具有一个几何形状，沿光线方向看，它投射一个至少在几处与待测量层几何形状相配合的区域(相关附图为图2)。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 薄层 厚度 设备 | ||
【主权项】：
1.一种测量薄层厚度的设备，采用一个发射射向待测量层的X射线的X射线管(12)，依靠X射线进行测量，该设备具有至少一个设在X射线管(12)和待测量层之间的孔径装置(17)，孔径装置(17)包括一个吸收X射线的区域(26)和具有一个孔径开口(28)，特征在于：在孔径装置(17)中至少一个孔径开口(28)具有一个几何形状，沿光线方向看，它投射一个至少在几处与待测量层几何形状相配合的区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赫尔穆特菲舍尔房地产有限及两合公司，未经赫尔穆特菲舍尔房地产有限及两合公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200310123119.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
