[发明专利]通过电化学蚀刻生产铌或钽成型物件的方法无效
| 申请号： | 200310123131.0 | 申请日： | 2003-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN1521288A | 公开（公告）日： | 2004-08-18 |
| 发明（设计）人： | M·戈特施林;J·勒菲尔霍尔茨;M·阿尔伯特;G·萨多斯基 | 申请（专利权）人： | H.C.施塔克股份有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/08 | 分类号： | C25F3/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢新华;马崇德 |
| 地址： | 联邦德*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种生产铌或钽的成型物件的方法，它是通过在含有氢氟酸的水溶液中用电化学方法蚀刻覆盖着结构化的光致抗蚀剂掩蔽物的铌或钽的板材，蚀刻是在这样的电化学条件下实施的，即把强的噪音电流叠加到蚀刻电流上并且蚀刻溶液中包含一种水溶性的聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 电化学 蚀刻 生产 成型 物件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种生产铌和钽的成型物件的方法，它是通过在含有氢氟酸的水溶液中用电化学方法蚀刻由结构化的光致抗蚀剂掩膜复盖的铌或钽的片材，其特征为蚀刻是在如下的电化学条件下实施的，即把占绝对蚀刻电流5-10％的平均变异的噪音电流叠加到产生的蚀刻电流上，并且蚀刻溶液含有一种水溶性的聚合物。
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