[发明专利]检测掩模缺陷的方法，计算机程序和基准衬底无效
| 申请号： | 200310123162.6 | 申请日： | 2003-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN1501174A | 公开（公告）日： | 2004-06-02 |
| 发明（设计）人： | J·E·范德沃尔夫;A·J·穆德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种检测掩模缺陷的方法，其中掩模制造之后立刻由掩模在基准衬底上形成图案。当IC制造发生时，将所述基准衬底储存在洁净的条件中。当怀疑掩模有缺陷时，通过掩模曝光使涂覆抗蚀剂的衬底、也就是测试衬底形成图案。比较基准衬底和测试衬底上的图案，以确定掩模是否有缺陷。通过扫描图案更小的区域可以找到掩模缺陷的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 缺陷 方法 计算机 程序 基准 衬底 | ||
【主权项】：
1.一种检测图案形成装置中的缺陷的方法，包括以下步骤：在光刻处理过程中，使用图案形成装置在基准衬底上印刷基准图形；在光刻处理过程中，使用图案形成装置在不同于所述基准衬底的生产衬底上曝光用于制造器件的图案在光刻处理过程中，使用图案形成装置在测试衬底上印刷测试图案；比较所印刷的测试图案和所印刷的基准图案，以检测出图案形成装置中的缺陷。
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