[发明专利]发光二极管元件与其形成方法无效
申请号: | 200310123254.4 | 申请日: | 2003-12-19 |
公开(公告)号: | CN1630108A | 公开(公告)日: | 2005-06-22 |
发明(设计)人: | 林照晃;吴伯仁 | 申请(专利权)人: | 洲磊科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 文琦;陈肖梅 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明揭露了一种发光二极管元件与其形成方法。此发光二极管元件具有菱形轮廓,其电极位于菱形较长的对角线两端,因此其电极距离较远且发光面积仍够大。因形成菱形轮廓且顺着基板的自然劈裂面进行,使制造过程中的合格率大为提高。此外,该发光二极管元件并可以做成较小的覆晶封装元件。 | ||
搜索关键词: | 发光二极管 元件 与其 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种发光二极管元件,该发光二极管元件包含:一底材;一具有菱形轮廓的多层化合物半导体结构,该多层化合物半导体结构位于该底材上,其中该菱形轮廓的一对平行边与该底材的易劈裂方向平行;及分别位于该菱形轮廓较长的对角线二端的一第一电极与一第二电极,使电流分布均匀。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于洲磊科技股份有限公司,未经洲磊科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200310123254.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。