[发明专利]薄膜晶体管液晶显示装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 200310123510.X 申请日: 2003-12-24
公开(公告)号: CN1534361A 公开(公告)日: 2004-10-06
发明(设计)人: 孙暻锡;林承武;金贤镇;赵珍熙 申请(专利权)人: 京东方显示器科技公司
主分类号: G02F1/136 分类号: G02F1/136;H01L21/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李贵亮;杨梧
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种薄膜晶体管液晶显示装置的制造方法。本发明所要解决的课题是提供一种薄膜晶体管液晶显示装置的制造方法。解决该课题的方案为,本发明中包括下述步骤:在绝缘基板上形成栅电极的步骤;在相对于一定时间连续变化的蒸镀条件下、在包含前述栅电极的绝缘基板的上部上顺序形成第一绝缘膜和第二绝缘膜的步骤;在相对于一定时间连续变化的蒸镀条件下、在前述第二绝缘膜的上部顺序形成第一非晶硅层和第二非晶硅层、并形成活性层的步骤;在前述活性层的上部顺序形成在前述活性层的上部顺次形成欧姆接触层和源/漏电极的步骤;以及在包含前述源/漏电极的形成物的上部形成保护膜的步骤。
搜索关键词: 薄膜晶体管 液晶 显示装置 制造 方法
【主权项】:
1、一种薄膜晶体管液晶显示装置的制造方法,包括下述步骤:在绝缘基板上形成栅电极的步骤;在相对于一定时间连续变化的蒸镀条件下、在包含前述栅电极的绝缘基板的上部上顺序形成第一绝缘膜和第二绝缘膜的步骤,在该步骤中,在功率、压力和电极间隔的第一蒸镀条件下形成第一绝缘膜,之后,在使前述第一蒸镀条件的至少一项以上连续变化的第二蒸镀条件下连续形成第二绝缘膜;在相对于一定时间连续变化的蒸镀条件下、在前述第二绝缘膜的上部顺序形成第一非晶硅层和第二非晶硅层、并形成活性层的步骤;在前述活性层的上部顺序形成在前述活性层的上部顺次形成欧姆接触层和源/漏电极的步骤;以及在包含前述源/漏电极的形成物的上部形成保护膜的步骤。
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