[发明专利]流体喷射装置及其制造方法无效
申请号: | 200310123718.1 | 申请日: | 2003-12-23 |
公开(公告)号: | CN1631673A | 公开(公告)日: | 2005-06-29 |
发明(设计)人: | 胡宏盛;陈苇霖 | 申请(专利权)人: | 明基电通股份有限公司 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李晓舒;魏晓刚 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种流体喷射装置及其制造方法。该装置包括:一第一基底,具有一第一晶格排列方向,一第二基底,黏合于该第一基底上,且具有一第二晶格排列方向,而该第一晶格排列方向不同于该第二晶格排列方向,一歧管,穿过该第一基底与该第二基底,一流体腔,形成于该第二基底,并与该歧管连通,以及多个喷孔,与该流体腔连通。本发明还公开了上述流体喷射装置的制造方法。 | ||
搜索关键词: | 流体 喷射 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种流体喷射装置,包括:一第一基底,具有一第一晶格排列方向;一第二基底,黏合于该第一基底上,且具有一第二晶格排列方向,而该第一晶格排列方向不同于该第二晶格排列方向;一歧管,穿过该第一基底与该第二基底;一流体腔,形成于该第二基底,并与该歧管连通;以及多个喷孔,与该流体腔连通。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于明基电通股份有限公司,未经明基电通股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200310123718.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。