[发明专利]器件制造方法和所制出的器件以及计算机程序和光刻装置无效
| 申请号： | 200310123918.7 | 申请日： | 2003-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN1508631A | 公开（公告）日： | 2004-06-30 |
| 发明（设计）人： | J·J·奥坦斯;M·N·J·范科温克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/02;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在对衬底边缘处的目标部分进行扫描曝光的过程中，改变照射区域的边缘的位置，从而防止或减少落在衬底台上的辐射或曝光L形区域。这样就可降低施加在衬底台上的热负载，并且可用假结构来填充缺口且不会重叠在对准标记上。 | ||
| 搜索关键词： | 器件 制造 方法 以及 计算机 程序 光刻 装置 | ||
【主权项】：
1.一种器件制造方法，包括：-提供衬底；-采用照明系统来提供辐射投影光束，所述投影光束在物面内的横截面由光束掩蔽装置来限定；-在所述物面处采用图案形成装置来使所述投影光束的横截面具有一定的图案；和-在沿扫描方向扫描所述衬底时将形成了图案的辐射光束投影到所述衬底的目标部分上；其特征在于：在所述投影步骤中改变所述投影光束的所述横截面的边缘在与所述扫描方向正交的方向上的位置。
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