[发明专利]光刻投影掩模和使用该掩模制造器件的方法及制造的器件无效
| 申请号： | 200310123944.X | 申请日： | 2003-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN1508632A | 公开（公告）日： | 2004-06-30 |
| 发明（设计）人： | K·F·贝斯特;J·J·康索利尼;A·弗里滋 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提出一种通过步进模式利用迭加到器件图案上的基准标记确定基片上显影图案的相对位置的方法，还提出一种光刻投影装置的掩模，其包括该方法使用的基准标记。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 投影 使用 制造 器件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种器件制造方法，包括步骤：提供基片，所述基片至少部分被光敏感材料层覆盖；利用辐射系统提供投影光束；提供至少一个形成图案机构，其包括器件图案；使用所述至少一个形成图案机构，使所述投影光束带有所述器件图案；将带有图案的投影光束投射到光敏感材料层的多个目标部分；其特征在于，所述器件图案具有至少一个基准标记，在确定所述多个目标部分中两个的相对位置的步骤，测量所述两个目标部分的所述至少一个基准标记是否对准。
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