[发明专利]光刻装置和器件制造方法以及衬底固定器有效
| 申请号： | 200310123954.3 | 申请日： | 2003-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN1510521A | 公开（公告）日： | 2004-07-07 |
| 发明（设计）人： | R·N·J·范巴尔勒;M·A·W·库佩斯;P·梅杰斯;G·范努恩;J·J·奥坦斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种衬底固定器，其具有高度不超过100微米的突起，以及至少10个布置在中心区域内的真空端口，该中心区域的半径延伸到衬底半径的三分之二处。因此，通过在中心区域内产生初始真空，从而施加夹紧力以压平晶片，并使初始真空加强到晶片被完全夹紧时为止，从而可靠地夹紧下凹的晶片。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 以及 衬底 固定器 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：-用于提供辐射投影光束的照明系统；-用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置用于使所述投影光束的横截面形成一定的图案；-用于固定衬底的衬底台，衬底固定器包括多个从一个表面上直立出来并具有基本上共面的末端的突出部分、围绕着所述突出部分的壁，以及多个通到由所述壁限定的空间内的真空端口；和-用于将所述形成图案的光束投影在所述衬底的目标部分上的投影系统，其特征在于，-各所述突出部分均具有不超过100微米的高度，并且设置了10个或更多个真空端口，它们全部通到由所述壁限定的所述空间的中心区域内，所述中心区域具有不超过所述衬底半径的70％的半径。
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