[发明专利]器件制造方法有效
| 申请号： | 200310123957.7 | 申请日： | 2003-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN1510522A | 公开（公告）日： | 2004-07-07 |
| 发明（设计）人： | K·F·贝斯特;J·J·康索利尼;S·希恩德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在衬底的两个侧面上制造器件的过程中，在衬底的第一面上蚀刻出倒转对准标记达10微米的深度，然后翻转衬底并将其粘结在载体晶片上，之后将衬底抛光或研磨到10微米的厚度，以显露出倒转对准标记来作为正常对准标记。该倒转对准标记可包括重叠的正常标记和倒转标记。 | ||
| 搜索关键词： | 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种器件制造方法，包括步骤：提供具有第一和第二表面的第一衬底；蚀刻所述衬底的所述第一表面到第一深度，产生至少一个对准标记，所述对准标记包括标准对准图案的镜像；将所述第一衬底的所述第一表面粘结在第二衬底上；使所述第一衬底变薄到等于或小于所述第一深度的第一厚度，从而显露出所述对准标记；和在将所述衬底与所显露出的对准标记对准的同时，利用光刻投影装置在所述第二表面上形成至少一个图案层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200310123957.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光刻装置和器件制造方法以及衬底固定器
- 下一篇：具有可扩展薄片的杂质屏蔽
