[发明专利]显示板用基板的制造方法有效
| 申请号： | 200310124493.1 | 申请日： | 2003-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN1510463A | 公开（公告）日： | 2004-07-07 |
| 发明（设计）人： | 藤林贞康;饭冢哲也;永山耕平 | 申请（专利权）人： | 东芝松下显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G03F7/20;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 胡烨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 显示板用基板的制造方法包括在透光性基板上形成有机绝缘膜的成膜工序；使上述有机绝缘膜形成图案、从而贯穿有机绝缘膜、形成第1开口及小于第1开口的第2开口的图案形成工序。特别是该图案形成工序包含使用平均透光率设定为在第1开口用的透光区域(LT1)低于在第2开口用的透光区域(LT2)的光掩膜(MK)、有选择地使有机绝缘膜曝光、除去该曝光部分的光刻处理。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 板用基板 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.显示板用基板的制造方法，其特征在于，包括在透光性基板(AR)上形成有机绝缘膜(11)的成膜工序；及使上述有机绝缘膜(11)形成图案、从而形成贯穿上述有机绝缘膜(11)的第1开口及小于上述第1开口的第2开口(HC)的形成图案工序；上述形成图案工序包含使用平均透光率设定为在上述第1开口(HT)用的透光区域(LT1)低于在上述第2开口(HC)用的透光区域(LT2)的光掩膜(MK)、有选择地使上述有机绝缘膜(11)曝光、除去该曝光部分的光刻处理。
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