[发明专利]器件制造方法和计算机程序无效
| 申请号： | 200310124671.0 | 申请日： | 2003-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN1530747A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | M·洛维斯奇;M·M·T·M·迪里奇斯;K·范恩根申奥;H·范德拉安;M·H·A·里德斯;E·麦戈;U·米坎 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及使用光刻装置的器件制造方法和用于控制光刻装置的计算机程序。该方法包括在光刻装置的投影系统中产生系统象差，进而对以斜度投影带有厚吸收层的厚反射掩模产生的图象进行优化。象差包括Z5(象散HV)、Z9(球面象差)和Z12(象散)。 | ||
| 搜索关键词： | 器件 制造 方法 计算机 程序 | ||
【主权项】：
1.一种器件制造方法，包括如下步骤：提供至少部分覆盖一层辐射敏感材料的基底；利用辐射系统提供一束辐射投影束；利用其上图形由厚吸收体确定的反射性掩模使该投影束在横截面上具有上述图形；在辐射敏感材料层的目标部分上投影该带有图形的辐射投影束；通过控制或产生上述投影图形化的束步骤中所使用的投影系统的系统偏差来补偿所有由掩模引起的成象伪差。
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