[发明专利]具有防着管的等离子体处理装置无效
| 申请号： | 200310124676.3 | 申请日： | 2003-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN1511972A | 公开（公告）日： | 2004-07-14 |
| 发明（设计）人： | 本城文兼;长谷川和纪;奥西广树 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;H05H1/10;H05H1/46;C23F4/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温大鹏;杨松龄 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种等离子体处理装置，具有由电子回旋加速器共振生成等离子体的等离子体室和保持由上述等离子体进行处理的试料的试料室，防着管防止上述等离子体的生成物附着在上述等离子体室的内壁上，根据上述等离子体发生时的温度分布，将防着管分割成多个部分防着管。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 防着 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置，包括：等离子体室，生成高密度等离子体；试料室，与上述等离子体室连通，且保持由上述等离子体进行处理的试料；防着管，防止由上述等离子体处理的生成物附着在上述等离子体室的内壁上，根据上述等离子体发生时的温度分布，被分割成多个。
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