[发明专利]通过控制拉速分布制造单晶硅锭和晶片的方法及其产品无效

专利信息
申请号: 200310124860.8 申请日: 1998-02-13
公开(公告)号: CN1548590A 公开(公告)日: 2004-11-24
发明(设计)人: 朴在槿;曹圭徹;李坤燮 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 张天舒;谢丽娜
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种硅锭按一拉晶速率分布下进行,其拉速要足够高以限制填隙聚集,且还要足够低以便将空位聚集限定在晶锭轴向上的富含空位区上。将晶锭切割成许多半纯晶片,每个晶片在中央具有富含空位区,包括空位聚集,和在富含空位区与晶片边缘之间的纯度区,无空位聚集和填隙聚集。按照本发明的另一方面,晶锭可按一拉晶速率分布拉制硅锭,其拉速要足够高以便防止填隙聚集,且还要足够低以便防止空位聚集。因此,当将该晶锭切割成晶片时,晶片为纯硅晶片,可包含点缺陷,但无空位聚集团的填隙聚集团。
搜索关键词: 通过 控制 分布 制造 单晶硅 晶片 方法 及其 产品
【主权项】:
1.一种用以生长单晶硅锭的Czochralski拉晶炉,其包括:封闭体;在封闭体中的坩埚;在封闭体中的拉晶轴,具有轴向轴和与坩埚相邻的轴端;用以将轴轴向拉离坩埚的装置;在封闭体中至少有一个加热器,其环绕坩埚;和在坩埚与拉晶轴之间的隔热屏,该隔热屏包括在其一端上的盖,该盖将保温材料封闭于其中。
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