[发明专利]相变型光记录介质及其记录方法无效
| 申请号： | 200310125199.2 | 申请日： | 2003-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN1534620A | 公开（公告）日： | 2004-10-06 |
| 发明（设计）人： | 伊藤和典;针谷真人;真贝胜;大仓浩子 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G11B7/00 | 分类号： | G11B7/00;G11B7/0045;G11B7/24;G11B7/125 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 黄小临;王志森 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种根据标志长度调制通过辐射脉冲式光束到相变型光记录介质的晶相变记录层上形成记录标记的记录方法，所述相变型光记录介质至少由相变记录层和基底上的反射层组成。当形成尺寸小于或等于预定尺寸N的记录标记时，所述记录方法辐射由单个记录脉冲形成的光束，所述预定尺寸N依据参考尺寸设置，所述参考尺寸是所述光束的聚束点直径与所述光束在其功率上升和下降的时间常数之和的时间之内移动的距离之和，以及当形成尺寸大于所述预定尺寸N的记录标记时，辐射由较多数目记录脉冲形成的光束。 | ||
| 搜索关键词： | 相变 记录 介质 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种根据标记长度调制形成记录标记的记录方法，所述调制是通过辐射脉冲式光束至相变型光记录介质的晶相变记录层上而进行的，所述相变型光记录介质至少由相变记录层和在基底上的反射层组成，其特征在于下列步骤：当形成尺寸小于或等于预定尺寸N的记录标记时，辐射由单个记录脉冲形成的光束，所述预定尺寸N依据参考尺寸设置，所述参考尺寸是所述光束的聚束点直径与所述光束在其功率上升和下降的时间常数之和的时间之内移动的距离之和；以及当形成尺寸大于所述预定尺寸N的记录标记时，辐射由多个记录脉冲形成的光束。
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