[发明专利]用于微电子的剥离和清洗组合物有效
| 申请号： | 200310125453.9 | 申请日： | 2003-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1580221A | 公开（公告）日： | 2005-02-16 |
| 发明（设计）人： | 肖恩·M·凯恩;金尚仁 | 申请（专利权）人： | 马林克罗特贝克公司 |
| 主分类号： | C11D7/34 | 分类号： | C11D7/34;H05K1/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 贾静环;宋莉 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 含碱清洗组合物和用这种清洗组合物清洗微电子基片的方法，特别是用于清洗FPD微电子基片，该组合物能够基本上完全清洗上述基片，而基本上不产生基片金属元件的金属腐蚀。本发明的含碱清洗组合物含有(a)亲核的胺，(b)中等至弱的酸，该酸的强度用在水溶液中的电离常数进行表示，其值为约1.2至约8，(c)选自脂族醇，二醇，多元醇或脂族二醇醚的组分，和(d)优选溶解参数为约8至约15的有机助溶剂。本发明的清洗组合物含有一定量的弱酸，使酸基团与胺基团当量摩尔比高于0.75，可以高达和超过1，例如1.02或者更高。本发明的含碱清洗组合物的pH约为4.5至9.5。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 微电子 剥离 清洗 组合 | ||
【主权项】：
1.用于清洗微电子基片的组合物，包括以下组分：(a)亲核的胺，(b)中等至弱酸，该酸所具有的强度用“pKa”在水溶液中的电离常数表示为约1.2至约8，(c)选自脂族醇、二醇、多元醇或二醇醚的化合物，和(d)有机助溶剂，弱酸成分(b)在组合物中的量是使酸/胺的当量摩尔比高于0.75的量，并且组合物的pH值约为4.5至9.5。
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