[实用新型]黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台无效
| 申请号： | 200320112204.1 | 申请日： | 2003-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN2653554Y | 公开（公告）日： | 2004-11-03 |
| 发明（设计）人： | 钟福来;赵艳岐;季来运;陈勤文;陈月云 | 申请（专利权）人： | 海泰超导通讯科技（天津）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300384天津市华苑产*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，包括机座、中心工作台、中心工作台角度调整机构三部分，其特征在于在中心工作台上包括掩膜版调整定位机构。本实用新型的优越性在于：本案可调节型掩膜版吸附台结构充分考虑了掩膜版吸附台的通用性，它可以适用于多种规格尺寸大小的掩膜版进行曝光工作，解决了传统掩膜版吸附台缺乏通用性的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 黄光微影 设备 曝光 调节 型掩膜版 吸附 | ||
【主权项】：
1、一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，包括机座、中心工作台、中心工作台角度调整机构三部分，其特征在于在中心工作台上包括掩膜版调整定位机构。
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