[实用新型]一种化学机械抛光用的抛光头结构无效
| 申请号： | 200320122937.3 | 申请日： | 2003-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN2712547Y | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | 储佳 | 申请（专利权）人： | 上海华虹（集团）有限公司;上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | B24B39/06 | 分类号： | B24B39/06;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人： | 滕怀流;陶金龙 |
| 地址： | 200020上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提出一种新的化学机械抛光用的抛光头结构，以改善目前片内和边缘均匀性难以兼顾的状态。通过对抛光头的加压气囊结构进行重新设计，将单个气囊分离成多个相互独立加压腔。提高抛光均匀性，从而提高产品合格率，降低成本，增加效益。本抛光头的结构包括：分离的相互独立的加压腔，用以隔离这些加压腔的隔离膜，以及这些隔离膜和加压腔组成的加压系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 抛光 结构 | ||
【主权项】：
1、一种用于化学机械抛光的抛光头结构，其特征是，加压气囊由多个相互独立的加压气囊腔组成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹（集团）有限公司;上海集成电路研发中心有限公司，未经上海华虹（集团）有限公司;上海集成电路研发中心有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200320122937.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
