[实用新型]高度检验判断装置无效
申请号: | 200320126723.3 | 申请日: | 2003-12-08 |
公开(公告)号: | CN2672717Y | 公开(公告)日: | 2005-01-19 |
发明(设计)人: | 杨卫国 | 申请(专利权)人: | 联想(北京)有限公司 |
主分类号: | G06F1/16 | 分类号: | G06F1/16;G06F1/00;G01B5/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王学强 |
地址: | 100085北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种高度检验判断装置,用于检验判断两物体间高度配合尺寸是否合格,其包括设有滑槽的框架及可在所述框架滑槽中滑动的滑杆,所述框架上设有检验判断的基准面,所述滑杆上设有第一测量面及低于所述第一测量面的第二测量面,所述第一测量面到所述基准面的垂直距离设置为物体间配合尺寸的下限值,所述第二测量面到所述基准面的垂直距离设置为物体间配合尺寸的上限值。使用时,将框架基准面置于其中一物体表面,当另一物体可以进入表示配合尺寸上限值的第二测量面但不能同时进入表示配合尺寸下限值的第一测量面时,即两物体间的配合尺寸在规定范围内,则这两个物体间相应的配合尺寸合格。 | ||
搜索关键词: | 高度 检验 判断 装置 | ||
【主权项】:
1.一种高度检验判断装置,用于检验判断两物体间高度配合尺寸是否合格,其特征在于:包括设有滑槽的框架及可在所述框架滑槽中滑动的滑杆,所述框架上设有检验判断的基准面,所述滑杆上设有第一测量面及第二测量面,所述第一测量面到所述基准面的垂直距离设置为物体间配合尺寸的下限值,所述第二测量面到所述基准面的垂直距离设置为物体间配合尺寸的上限值。
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