[实用新型]配屏幕电弧的多功能离子镀膜装置无效
申请号: | 200320127771.4 | 申请日: | 2003-12-17 |
公开(公告)号: | CN2700341Y | 公开(公告)日: | 2005-05-18 |
发明(设计)人: | 王殿儒;徐健;金佑民;刘齐成 | 申请(专利权)人: | 北京长城钛金公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100095北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及配屏幕电弧的多功能离子镀膜装置,安装在靶后的磁场强度大、小可调整,磁场强时按磁控溅射模式运行,磁场弱时按多弧模式运行。在矩形靶的前面,配置了覆盖整个矩形靶面面积的屏幕电弧,特别针对磁控溅射模式时,显著提高靶面附近的离化率。由于靶面积较大,沿矩形靶长边和短边作“跑道”形弧斑运动或起辉,产生的靶材离子在负偏压的作用下,按离子镀的定义沉积在工件上。 | ||
搜索关键词: | 屏幕 电弧 多功能 离子 镀膜 装置 | ||
【主权项】:
1.一种配屏幕电弧的多功能离子镀膜装置,其特征是沿圆筒形真空室壁的母线上装有一个或一个以上的矩形靶,靶的磁场有三种结构,一种是用电磁线圈产生可调节的磁场结构,另一种是用永久磁铁产生的永久磁场结构,第三种是采用电磁线圈与永久磁铁相互配合的结构;强磁场结构构成磁控溅射装置,弱磁场结构构成多弧装置,在矩形靶前配置线形阴极灯丝及线形阳极,此结构产生类似屏幕状的电弧,覆盖矩形靶的整个面积。
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