[实用新型]多对靶薄膜溅射仪无效

专利信息
申请号: 200320130966.4 申请日: 2003-12-31
公开(公告)号: CN2666927Y 公开(公告)日: 2004-12-29
发明(设计)人: 姜恩永;白海力;吴萍;李志青;何柏岩 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 代理人: 曹玉平
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型公开了一种多对靶薄膜溅射仪,在溅射真空室内设置有至少三对靶及靶头,所述各对靶之间设置有非磁性金属隔离板,所述溅射真空室的上盖或下盖与所述各靶头连接处设置有波纹管,所述溅射真空室内设置有基板架,所述基板架上设置有基板,所述基板架的外围设置有与基板架同心的带有侧孔的套筒,所述溅射真空室的上端盖上设置有真空室的开启机构。所述基板架与第一电机连接,所述套筒与第二电机连接,所述第一电机、第二电机分别与微控制器连接。所述每对靶头之间设置有间距调节装置。所述基板架为多面体。使用本实用新型的装置,能在线制备各种材质的单层膜或多层膜,成膜速度快、均匀性好,厚度可控,而且制膜简单方便。
搜索关键词: 薄膜 溅射
【主权项】:
1.一种多对靶薄膜溅射仪,在溅射真空室内设置有至少三对靶及靶头,所述各对靶之间设置有非磁性金属隔离板,其特征是,所述溅射真空室的上盖或下盖与所述各靶头连接处设置有波纹管,所述溅射真空室内设置有基板架,所述基板架上设置有基板,所述基板架的外围设置有与基板架同心的带有侧孔的套筒,所述溅射真空室的上端盖上设置有真空室的开启机构。
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