[实用新型]应用于治疗面疱的光疗器及其中使用的发光二极管无效

专利信息
申请号: 200320131772.6 申请日: 2003-12-30
公开(公告)号: CN2714088Y 公开(公告)日: 2005-08-03
发明(设计)人: 石宇庆 申请(专利权)人: 石宇庆
主分类号: A61N5/06 分类号: A61N5/06
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 董惠石
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种应用于治疗面疱的光疗器,在光疗器主体上设有可显示固态光源照射的累加次数,及每次照射时间的显示装置,在照射部上设置遮光罩,从而克服了公知技术存在的缺陷,在精确控制治疗时间、有效地控制照射皮肤的光剂量提高疗效的同时,不损伤皮肤,并可避免眼睛受到不必要的光线照射,且该光疗器的照射部可压入皮肤,进一步提高了治疗效果。以及应用于上述光疗器的发光二极管,其主体包含第一晶粒与第二晶粒,该第一晶粒与第二晶粒的光线混合,光线分布较均匀,且该发光二极管可有效降低晶粒所发出的热量,提高了晶粒发出的光的功率,从而具有较好的治疗作用。
搜索关键词: 应用于 治疗 面疱 光疗 其中 使用 发光二极管
【主权项】:
1、一种应用于治疗面疱的光疗器,其特征在于:所述光疗器包含:一主体;一照射部,设于上述主体,上述照射部为具有波长可治疗面疱的照射部。一可显示上述照射部照射的累加次数的显示装置设于上述主体。
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