[发明专利]曝光装置和用于制造曝光装置的方法有效
| 申请号： | 200380100089.9 | 申请日： | 2003-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN1684836A | 公开（公告）日： | 2005-10-19 |
| 发明（设计）人： | 盐田聪;安永真;增浏贞夫;岩子彰展;横山正史 | 申请（专利权）人： | 西铁城时计株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/445 | 分类号： | B41J2/445 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，提供能够采用从包含有相邻发光部件光线的复合光中检测对应于一个特定发光部件的光量的方法，确定各个发光部件校正值的曝光装置，而且还提供用于制造这种曝光装置的方法。根据本发明的制造方法包括步骤：同时点亮多个发光部件，通过使用线状光接收设备进行测量来检测在所有多个发光部件上的输出光量分布，通过使用输出光量分布检测与每个发光部件相对应的峰位置，基于峰位置检测每个发光部件的光量，和基于每个发光部件的光量，确定用于校正发光部件光量不均匀性的校正值。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 用于 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造曝光装置的方法，所述曝光装置包括具有多个发光部件的曝光头和用于控制所述曝光头的控制装置，所述方法包括步骤：同时点亮所述多个发光部件；通过使用线状光接收设备进行测量，来检测在所有所述多个发光部件上的输出光量分布；通过使用所述输出光量分布，检测与每个所述发光部件相对应的峰位置；基于所述每个峰位置，检测所述每个发光部件的光量；和基于所述每个发光部件的光量，确定用于校正所述每个发光部件光量不均匀性的校正值。
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