[发明专利]制作用于制造光盘的母盘的方法和制造光盘的方法无效

专利信息
申请号: 200380100300.7 申请日: 2003-11-20
公开(公告)号: CN1692417A 公开(公告)日: 2005-11-02
发明(设计)人: 甲斐慎一;河内山彰;荒谷胜久;中川谦三;竹本祯广 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G11B7/26 分类号: G11B7/26;G03F7/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 邸万奎;黄小临
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种制作用于制造光盘的压模的方法包括:曝光步骤,用以与光盘上/中形成的信息凹出/凸入图案的信息信号对应的信息信号调制的记录激光束照射衬底(100)上形成的有机抗蚀层(101),以形成与光盘上的信息凹出/凸入图案对应的曝光图案,和显影步骤,显影有机抗蚀层以形成与该有机抗蚀层的凹出/凸入图案对应的曝光图案。在曝光步骤中,将估计激光束施加到该有机抗蚀层上预定区域,利用该估计激光束的反射光来估计该有机抗蚀层的曝光图案的记录信号特性,并根据估计结果来控制该记录激光束的功率。从而将信息可靠地记录在目标光盘上。
搜索关键词: 制作 用于 制造 光盘 母盘 方法
【主权项】:
1.一种制作用于制造光盘的母盘的方法,包括:曝光步骤,将由与所述光盘上形成的信息凹凸图案的信息信号对应的信息信号调制的用于记录的激光束施加到衬底上形成的无机抗蚀层,以形成与所述光盘上的所述信息凹凸图案对应的曝光图案;以及前一步骤之后的显影步骤,对所述无机抗蚀层执行显影处理,以形成与所述无机抗蚀层的所述信息凹凸图案对应的曝光图案,其中在所述曝光步骤中,将用于估计的激光束施加到所述无机抗蚀层上预定区域,以利用该用于估计的激光束的反射光来估计所述无机抗蚀层的曝光图案的信息信号特性,并基于估计结果来控制所述用于记录的激光束的功率。
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