[发明专利]化学放大正性光致抗蚀剂组合物有效
申请号: | 200380100580.1 | 申请日: | 2003-10-27 |
公开(公告)号: | CN1692314A | 公开(公告)日: | 2005-11-02 |
发明(设计)人: | 新田和行;本池直人 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 范明娥;巫肖南 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开了一种化学放大正性光致抗蚀剂组合物,其对不同类型的抗蚀图形具有极好的灵敏度和图形分辨率,呈高曝光极限和聚焦深度宽容度。必要组分包括(A)能通过与酸反应来增加碱溶解度的树脂和(B)一种产生酸的化合物,成分(A)是第一树脂(a1)和第二树脂(a2)的组合,第一树脂(a1)和第二树脂(a2)各是用酸可离解的、降低溶解度的取代基团部分取代羟基氢原子的羟基苯乙烯基共聚树脂。特征地,除了质均分子量不同,(a1)质均分子量高而(a2)质均分子量低以外,在(a1)树脂中取代基的酸离解性高于在(a2)树脂中的酸离解性如在(a1)的1-乙氧基乙基和(a2)的四氢吡喃的组合。 | ||
搜索关键词: | 化学 放大 正性光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】:
1.一种化学放大正性光致抗蚀剂组合物,它包含(A)一种能通过与酸相互作用增加在碱中溶解度的树脂组分,其包含未取代的羟基苯乙烯单元和用酸可离解的、降低溶解度的基团取代羟基氢原子的羟基苯乙烯单元,和(B)一种能在射线照射下产生酸的化合物,其中成分(A)是第一共聚树脂(a1)和第二共聚树脂(a2)的组合物,第一共聚树脂(a1)的质均分子量为15000-30000、分子量分散度Mw/Mn为1-4、并含有25摩尔%或更少的被酸可离解的、降低溶解度基团取代的羟基苯乙烯单元,第二共聚树脂(a2)的质均分子量为3000-10000、分子量分散度Mw/Mn为1-4、并含有至少35摩尔%被酸可离解的降低溶解度基团取代的羟基苯乙烯单元,在第一共聚树脂(a1)中的酸可离解的降低溶解度基团的酸的离解性高于在第二共聚树脂(a2)中的酸可离解的降低溶解度基团的酸的离解性。
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