[发明专利]半导体腐蚀和污染控制设备,系统和方法无效
| 申请号： | 200380101488.7 | 申请日： | 2003-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN1705771A | 公开（公告）日： | 2005-12-07 |
| 发明（设计）人： | 大卫·B·道林;法尔塞德·霍拉米 | 申请（专利权）人： | 应用半导体国际有限公司 |
| 主分类号： | C23F13/00 | 分类号： | C23F13/00;C23F13/02;C23F13/04;C23F13/06 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郝庆芬 |
| 地址： | 瑞士诺*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 一种设备、系统、方法和计算机程序产品，旨在控制与腐蚀环境接触并以半导体涂层涂覆的导电结构的腐蚀。其中该腐蚀是由可控制滤波器(898)和相应的电子控制单元(899)控制的，设置该电子控制单元处理至少一个存储的或测量的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 腐蚀 污染 控制 设备 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种控制与腐蚀环境接触的导电结构的腐蚀的系统，包括：包含布置在所述导电结构上的半导体颗粒的涂层；滤波器，连接至所述涂层并具有可控制滤波器特性；以及电子控制设备，连接至所述滤波器，包括到本地传感器、数据库和遥控设备中的至少一个设备的连接，并且设置与本地读出的参数、存储的参数和远程提供的信号相一致地控制所述可控制滤波器特性。
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