[发明专利]介体的氢卤酸电解无效
| 申请号： | 200380101598.3 | 申请日： | 2003-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN1705772A | 公开（公告）日： | 2005-12-07 |
| 发明（设计）人： | 兹比格涅夫·特瓦尔多夫斯基;托马斯·德拉克特;斯图尔特·R·哈珀 | 申请（专利权）人： | 阿克科瓦尔内尔加拿大公司 |
| 主分类号： | C25B1/26 | 分类号： | C25B1/26;C25B1/24 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 加拿大不列*** | 国省代码： | 加拿大;CA |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在膜电解槽中，使用阴极介体如Fe(III)和/或铜(II)的氯化物以及其实际表面积至少高于投影面积10倍的非催化的3维阴极，通过电解含水的HCl而制备氯气。将HCl电解部分与用于介体再生的氧化剂、产物水的去除步骤以及任选的HCl回收步骤相结合。在优化的条件下可以在非常高的30kA/m2的电流密度下制备氯气，而不会在阴极引起所不希望的H2离析反应。 | ||
| 搜索关键词： | 氢卤酸 电解 | ||
【主权项】：
1.一种在电解槽中电解含水的氢卤酸溶液来制备卤素气体的方法，所述电解槽包括含电催化剂的阳极；阴极；阳极电解液室；阴极电解液室；分离上述阳极电解液室与上述阴极电解液室的固体聚合物电解质膜；所述方法包括：(a)将含水的氢卤酸给料进给到所述阳极电解液室中；(b)将含水的阴极电解液给料进给到所述阴极电解液室中，所述阴极电解液给料包含处于第一个氧化态、在所述阴极处可被还原到低的第二个氧化态的金属离子物质，以便产生包含所述被还原的金属离子物质的阴极电解液流出物；(c)在所述阳极电解液室中在所述阳极处产生所述卤素气体和经消耗的氢卤酸流出物；(d)收集所述卤素气体和所述经消耗的氢卤酸流出物；其中所述阴极包括导电阴极，该导电阴极包括具有至少10倍于其投影面积的表面积的部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阿克科瓦尔内尔加拿大公司，未经阿克科瓦尔内尔加拿大公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200380101598.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
