[发明专利]化学增强正性光敏树脂组合物有效
| 申请号： | 200380101785.1 | 申请日： | 2003-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN1705914A | 公开（公告）日： | 2005-12-07 |
| 发明（设计）人： | 西胁良典;牧井利道 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料(日本)株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种光敏树脂组合物，适于形成厚抗蚀图形时使用的厚膜和超厚膜，该抗蚀图形应用于形成磁头上的磁极以及凸块的过程中，其包含(A)碱溶性酚醛清漆树脂，(B)碱溶性丙烯酸树脂，(C)缩醛化合物和(D)产酸剂。包含由下式(I)表示的结构单元(其中R表示含1～20个碳原子的饱和烷基，n是1－10的一个整数)的缩聚物作为缩醛化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增强 光敏 树脂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种化学增强正性光敏树脂组合物，包含(A)碱溶性酚醛清漆树脂，(B)碱溶性丙烯酸树脂，(C)缩醛化合物和(D)产酸剂。
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