[发明专利]图案形成材料体和使用该材料体的图案形成方法有效
| 申请号： | 200380101900.5 | 申请日： | 2003-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN1705912A | 公开（公告）日： | 2005-12-07 |
| 发明（设计）人： | 金朱镐;富永淳二 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;独立行政法人产业技术总合研究所 |
| 主分类号： | G03F1/08 | 分类号： | G03F1/08 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郭鸿禧;金纪民 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种图案形成材料体，该图案形成材料体包括：在目标衬底上形成的热敏材料层；在热敏材料层和目标衬底之间形成的第一光/热转换层；和在热敏材料层与第一光/热转换层相对的表面上形成的第二光/热转换层，该热敏材料层置于第一和第二光/热转换层之间。使用在热敏材料层的两个表面上形成的第一和第二光/热转换层中产生的热，能够在由光致抗蚀剂制成的热敏材料层中形成宽高比更高的精细图案。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 材料 使用 方法 | ||
【主权项】：
1、图案形成材料体，包括：热敏材料层，在目标衬底上形成；第一光/热转换层，在热敏材料层和目标衬底之间形成；和第二光/热转换层，在热敏材料层与第一光/热转换层相对的表面上形成，其中，热敏材料层置于第一和第二光/热转换层之间。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
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