[发明专利]日照屏蔽体及日照屏蔽体形成用分散液有效
| 申请号： | 200380102433.8 | 申请日： | 2003-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN1708567A | 公开（公告）日： | 2005-12-14 |
| 发明（设计）人： | 长南武;足立健治 | 申请（专利权）人： | 住友金属矿山株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/00 | 分类号： | C09K3/00;C09D1/00;//C03C17/22;C03C17/28 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高龙鑫;王玉双 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及的该日照屏蔽体，其特征在于，透过率在波长400～700nm有极大值，同时，在波长700～1800nm有极小值，并且，当透过率极大值为P、极小值为B、可见光透过率为VLT时，具有在60％≤VLT≤80％时，滿足下列数学式(1)，在38％≤VLT≤55％时，滿足下列数学式(2)的日照屏蔽特性。P/B+0.2067×VLT≥1 7.5(1)；P/B+2.4055×VLT≥133.6 (2)。 | ||
| 搜索关键词： | 日照 屏蔽 体形 分散 | ||
【主权项】：
1.一种日照屏蔽体，其特征在于，在含有日照屏蔽用微粒的日照屏蔽体中，其透过率在波长400～700nm有极大值，同时，在波长700～1800nm有极小值，并且，透过率极大值为P、极小值为B、可见光透过率为VLT时，具有在60％≤VLT≤80％时满足下列数学式(1)的日照屏蔽特性：P/B+0.2067×VLT≥17.5 (1)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友金属矿山株式会社，未经住友金属矿山株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200380102433.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
