[发明专利]抗蚀组合物无效
申请号: | 200380102724.7 | 申请日: | 2003-11-06 |
公开(公告)号: | CN1711504A | 公开(公告)日: | 2005-12-21 |
发明(设计)人: | 川口泰秀;金子勇;武部洋子;冈田伸治;横小路修 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;H01L21/027;C08F16/02;C08F16/24;C08F8/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 胡烨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供抗蚀组合物,该组合物易形成抗蚀图案,对F2激基缔合物(excimer)激光等真空紫外线透明性、干蚀刻性能优良,且感光度、析像度、平坦性、耐热性等也良好。该抗蚀组合物的特征在于包括含氟聚合物(A)、受光照射产生酸的产酸化合物(B)以及有机溶剂(C),该含氟聚合物(A)含有一个被保护基保护的酸性基,该保护基含有环烷基、有一个或多个环烷基的有机基、双环烷基等。 | ||
搜索关键词: | 组合 | ||
【主权项】:
1.抗蚀组合物,其特征在于,包括含氟聚合物(A)、受光照射产生酸的产酸化合物(B)以及有机溶剂(C),其中该含氟聚合物是有酸性基的含氟聚合物,该酸性基的一部分被式(1)所示的保护基保护, -CHR1-O-R2 (1)R1是氢原子或碳原子数小于等于3的烷基;R2是可带取代基的环烷基、有1个或1个以上该环烷基的1价有机基、可带取代基的具有2~4个环的交联环状饱和烃或具有该交联环状饱和烃的有机基。
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