[发明专利]用于磁共振成像的自屏蔽梯度场线圈无效
| 申请号： | 200380103637.3 | 申请日： | 2003-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN1714300A | 公开（公告）日： | 2005-12-28 |
| 发明（设计）人： | S·M·什瓦特斯曼;M·A·莫里奇;G·D·德梅斯特 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/421 | 分类号： | G01R33/421 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;刘杰 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 用于磁共振成像装置(10)的梯度线圈包括定义内圆柱面(60)的初级线圈(16)，和定义同轴的外圆柱面(62)的一个屏蔽线圈(18)或多个线圈。线圈跳变(74)连接初级和屏蔽线圈(16、18)。线圈跳变(74)定义非平面的电流共享表面(64)，该电流共享表面在分别与内圆柱面(60)和外圆柱面(62)一致的内、外轮廓(66、68)之间延伸。线圈(16、18、74)定义多次穿过位于内、外轮廓(66、68)之间的电流共享表面(64)的电流路径。任选地，电互连一些初级线圈匝(70)以定义隔离的初级子线圈(P2)，该初级子线圈和第二屏蔽(S2、S2′、S2”)共同允许离散地或连续地可选择的视场。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磁共振 成像 屏蔽 梯度 线圈 | ||
【主权项】：
1.一种用于磁共振成像装置(10)的梯度线圈，包括：初级线圈(16)，定义内圆柱面(60)；屏蔽线圈(18)，定义与内圆柱面(60)同轴对准的外圆柱面(62)，并且具有大于内圆柱面(60)的圆柱半径；多个线圈跳变(74)，电连接初级和屏蔽线圈(16、18)，且线圈跳变(74)定义非平面的电流共享表面(64)，该非平面的电流共享表面在与内圆柱面(60)一致的内轮廓(66)和与外圆柱面(62)一致的外轮廓(68)之间延伸；初级线圈(16)、屏蔽线圈(18)和线圈跳变(74)共同定义多次穿过位于内、外轮廓(66、68)之间的电流共享表面(64)的电流路径。
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