[发明专利]双晶体管或非器件有效

专利信息
申请号: 200380103941.8 申请日: 2003-10-14
公开(公告)号: CN1714451A 公开(公告)日: 2005-12-28
发明(设计)人: Z·克里沃卡皮奇;J·X·安;林明仁;汪海宏 申请(专利权)人: 先进微装置公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L27/092
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 戈泊;程伟
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种或非(NOR)门,由二个非对称鳍型场效应晶体管(FinFET)类型的晶体管(801、802)所构成,替代传统的由四个晶体管所构成的NOR门。晶体管数目由四个降至两个可明显增进集成的半导体电路的性能。
搜索关键词: 双晶 器件
【主权项】:
1.一种或非(NOR)门,包括:第一鳍型场效应晶体管(FinFET)(801),包括独立可控制的第一栅极与第二栅极区域(822、823)、源极区域(821)、以及漏极区域(820);第二鳍型场效应晶体管(802),包括独立可控制的第一栅极与第二栅极区域(832、833)、源极区域(831)、以及漏极区域(830);该NOR门的第一输入线,其连接至该第一鳍型场效应晶体管(801)的第一栅极区域(822)以及该第二鳍型场效应晶体管(802)的第一栅极区域(832);该NOR门的第二输入线,其连接至该第一鳍型场效应晶体管(801)的第二栅极区域(823)以及该第二鳍型场效应晶体管(802)的第二栅极区域(833);以及该NOR门的输出线,其连接至该第一鳍型场效应晶体管(801)的源极区域(820)以及该第二鳍型场效应晶体管(802)的漏极区域(830)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于先进微装置公司,未经先进微装置公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200380103941.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top