[发明专利]用于确定被测量的系统分析方法

摘要

本发明涉及用于分析技术系统的方法和装置以及计算机程序。用于设计技术系统的方法，所述技术系统通过状态量和诊断量来描述特征。在所述设计中引入包括第一被测量的测量场，所述第一被测量以预定的准确度进行测量。另外，可以以预定的准确度测量第二被测量。在该方法中，确定被测量的灵敏度值，其中为了确定第一灵敏度值，测定所述第一被测量的测量准确度的变化在多大程度上影响至少一个参数，并且为了确定第二灵敏度值，测定所述第二被测量的测量在多大程度上影响至少一个参数。于是如此改变所述测量场，使得被测量的准确度被改变，和/或从所述测量场中去掉所述第一被测量，和/或将第二被测量添加到所述测量场中。

主权项

1.用于设计技术系统的方法，所述技术系统通过包括状态量和取决于所述状态量的诊断量的参数来描述特征：-在所述方法中，通过方程组来描述所述技术系统，其中所述状态量是所述方程组的解；-在所述方法中，分析包括第一被测量的测量场，其中在所述技术系统中以预定的准确度来测量所述第一被测量，并且所述第一被测量取决于所述状态量；-在所述方法中，可在所述技术系统中以预定的准确度来测量取决于所述状态量的第二被测量。-在所述方法中，确定所述第一被测量的第一灵敏度值和/或所述第二被测量的第二灵敏度值；-其中为了确定所述第一灵敏度值，测定所述第一被测量的测量准确度的变化在多大程度上影响至少一个所选择的参数，并且为了确定所述第二灵敏度值，测定所述第二被测量的测量在多大程度上影响至少一个所选择的参数；-在所述方法中，依赖于所述第一和/或第二灵敏度值这样改变所述测量场，使得一个或者多个第一被测量的准确度被改变，和/或从所述测量场中去掉一个或者多个第一被测量，和/或将一个或者多个第二被测量添加到所述测量场中；-在所述方法中，所改变的测量场被用于设计所述技术系统。