[发明专利]反光片

摘要

反光片的原始片包括在其较低的半球表面提供金属反射层的多个玻璃珠，用于支撑玻璃珠的树脂支撑片，以及配置在树脂支撑片表面侧的透明的覆盖膜，其中树脂支撑片和覆盖膜通过从树脂支撑片背面侧进行的热压压纹成形彼此连接以形成反光片的原始片，反光片层压板包括压敏胶层和用于在反光片的原始片后面一侧覆盖压敏胶层的树脂剥离膜。通过热压压纹成形而得到的压纹的沟槽被一部分压敏胶层所填充，压敏胶层的残留率范围在10％～50％之间且包括10％和50％，并且压敏胶层的下落时间范围在10小时～150小时之间包括10小时和150小时。

主权项

1、一种反光片，其包括：多个反光元件；树脂支撑片；配置在树脂支撑片表面侧的透明的覆盖膜；以及在树脂支撑片背面侧形成的压敏胶层，其中反光元件容纳在树脂支撑片和覆盖膜至少之一中，树脂支撑片和覆盖膜通过从树脂支撑片背面侧的热压压纹成形而彼此连接，以形成连接部分，在树脂支撑片的背面侧形成连接部分的沟槽，沟槽被一部分压敏胶层填充，压敏胶层的残留率范围在10％和50％之间且包括10％和50％，并且压敏胶层的下落时间范围在10小时和150小时之间且包括10小时和150小时：其中残留率(％)＝(残留位移÷初位移)×100，初位移是指由Yamamoto的内聚力试验仪测量的平板和反光片之间的位移(mm)，其发生在以下步骤5分钟之后：使用由JIS Z 0237规定的压制装置，将大小为10mm×5mm的反光片压在宽度为5mm的由JISG 4305规定的SUS304钢板的镜面平板上；压完之后立即分别在反光片的两个末端通过细绳添加17克的负载；以及再将200克的测量载荷施加在一个负载上，残留位移是指除去200克的载荷10分钟后在平板和反光片之间发生的位移，并且下落时间是指依照JISZ0237保持力试验在40℃下的保持力试验中施加9.8N的载荷下反光片的下落时间。