[发明专利]在材料处理系统中监视等离子体的方法和装置无效
| 申请号： | 200380104648.3 | 申请日： | 2003-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN1720598A | 公开（公告）日： | 2006-01-11 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·E.·克莱考特卡 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;G06K19/077;G06K7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种改进的设备和方法以监视材料处理系统，其中材料处理系统包括等离子体处理工具，多个耦合至等离子体处理工具的射频响应传感器以产生和发送等离子体数据，和传感器接口组件(SIA)以从多个射频响应传感器接收等离子体数据。 | ||
| 搜索关键词： | 材料 处理 系统 监视 等离子体 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种材料处理系统，包括：等离子体处理工具，其中等离子体处理工具包括一个处理室；多个耦合至等离子体处理工具的射频响应等离子体传感器，射频响应等离子体传感器被配置成可以为等离子体处理工具产生等离子体数据并发送等离子体数据；以及传感器接口组件(SIA)，配置成可以从至少一个射频响应等离子体传感器接收等离子体数据。
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