[发明专利]形成抗蚀图案的方法、正型抗蚀剂组合物和层状产品无效
申请号: | 200380104689.2 | 申请日: | 2003-12-01 |
公开(公告)号: | CN1997939A | 公开(公告)日: | 2007-07-11 |
发明(设计)人: | 羽田英夫;宫入美和;久保田尚孝;岩井武 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/039 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 陈平 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种形成抗蚀图案的方法,该方法可以使在良好控制图案尺寸下形成抗蚀图案,并且提供在该方法中使用的正型抗蚀剂组合物和使用正型抗蚀剂组合物形成的层状产品。在上面方法中,将包含树脂组分(A)和通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)的正型抗蚀剂组合物涂布在基材上,所述的树脂组分(A)包含衍生自由下面通式(I)表示的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a1),并且在酸作用下显示提高的碱溶解度,进行预烘焙,选择性地曝光抗蚀剂组合物,进行后曝光烘焙(PEB),然后使用碱性显影以形成抗蚀图案,然后通过热处理使由此产生的抗蚀图案的图案尺寸变窄。 | ||
搜索关键词: | 形成 图案 方法 正型抗蚀剂 组合 层状 产品 | ||
【主权项】:
1.一种形成抗蚀图案的方法,该方法包含:抗蚀图案形成步骤,其中在基材上,涂布包含在酸作用下显示提高的碱溶解度的树脂组分(A)和通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)的正型抗蚀剂组合物,进行预烘焙,选择性地曝光所述的抗蚀剂组合物,进行后曝光烘焙(PEB),然后使用碱性显影以形成抗蚀图案;和变窄步骤,其中通过加热处理使所述的抗蚀图案的图案尺寸变窄,其中所述的组分(A)利用具有衍生自由下面通式(I)表示的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a1)的树脂:其中,R表示氢原子或甲基;X表示具有1至4个环的烃基;R1至R3各自独立表示低级烷基,或备选地,R1至R3中的一个表示低级烷基,其它两个表示低级亚烷基,其末端相互连接在一起以形成含有5至6个碳原子的单环,所述的碳原子包括连接的末端碳原子。
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