[发明专利]使用X-射线发射监控制程的方法以及系统无效

专利信息
申请号: 200380105144.3 申请日: 2003-10-08
公开(公告)号: CN1720446A 公开(公告)日: 2006-01-11
发明(设计)人: 德罗尔·舍梅什 申请(专利权)人: 应用材料以色列公司
主分类号: G01N23/225 分类号: G01N23/225;H01L21/66
代理公司: 上海隆天新高专利商标代理有限公司 代理人: 楼仙英
地址: 以色列瑞*** 国省代码: 以色列;IL
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摘要: 发明提供数种通过带电粒子束(例如电子或离子)所诱引的X-射线发射为基础而用于制程监控的系统及方法,其中用于制程监控的系统及方法可在空孔被填充之前先分析该空孔,并接着在该空孔以导电材料填充后分析来自空孔的发散X-射线。用于制程监控的系统及方法也包括将定量分析校正技术应用于已检测X-射线发射上。
搜索关键词: 使用 射线 发射 监控 方法 以及 系统
【主权项】:
1.一种用于制程监控的方法,该方法至少包含下列步骤:接收含有空孔的样品,该样品由至少一种第一材料所制成;判别空孔的至少一种特性;接收样品,该样品至少包含一个充填有第二材料的经处理空孔;将带电粒子束导向样品,以诱引来自样品的第一部份的X-射线发射,第一部份至少部分覆盖经处理空孔;检测第一部份发散的X-射线;以及提供与该过程有关的标示,以响应来自第一部份的已检测X-射线发射以及空孔的至少一个经判别特性。
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