[发明专利]利用单个发生器和开关元件而以空间上不同的等离子体二级元件驱动空间上独立的谐振结构

摘要

一种用于处理工件的等离子体反应器，此等离子体反应器包括：外壳，在外壳内的工件支座，此工件支座对着外壳的上部，工件支座和外壳的上部确定了两者之间的处理区域，处理区域基本延伸跨越晶片支座的直径，外壳具有从其中穿过的第一对和第二对开口，第一对和第二对开口的每两个开口基本邻近工件支座的相对侧。第一中空管道位于处理区域外部且连到第一对开口，提供延伸穿过管道和跨越处理区域的第一环形通道。第二中空管道位于处理区域外部且连到第二对开口，提供延伸穿过管道和跨越处理区域的第二环形通道。第一和第二等离子体源功率应用装置分别电感耦合到第一和第二中空管道的内部，第一和第二等离子体源功率应用装置各自能维持第一和第二环形通道中各自通道内的等离子体。一射频功率发生器提供射频输出电流，电流开关网络连到射频功率发生器和第一、第二等离子体源功率应用装置之间，将射频输出电流的各个周期时间段施加到第一和第二等离子体源功率应用装置中各自的应用装置。

主权项

1.一种用于处理工件的等离子体反应器，所述等离子体反应器包括：一外壳；一位于所述外壳内的工件支座，该工件支座对着所述外壳的上部，所述工件支座和所述外壳的上部确定了它们之间的一处理区域，该处理区域基本延伸跨越所述晶片支座的直径；所述外壳具有自其中穿过的第一对和第二对开口，所述第一对和第二对开口中的每一对的两个开口基本邻近所述工件支座的相对侧；第一中空管道位于所述处理区域的外部且连接到所述第一对开口，提供了延伸穿过所述管道和跨越所述处理区域的第一环形通道；第二中空管道位于所述处理区域的外部且连接到所述第二对开口，提供了延伸穿过所述管道和跨越所述处理区域的第二环形通道；第一和第二等离子体源功率应用装置，其分别电感耦合到所述第一和第二中空管道的内部，所述第一和第二等离子体源功率应用装置各自能够维持所述第一和第二环形通道中一对应环行通道内的等离子体；一射频功率发生器，其提供射频输出电流；一电流开关网络，其连接到所述射频功率发生器与所述第一和第二等离子体源功率应用装置之间，以将射频输出电流的相应周期时间段提供给所述第一和第二等离子体源功率应用装置中一对应的等离子体源功率应用装置。