[发明专利]曝光装置和器件制造方法

摘要

曝光装置(EX)在投影光学系统(PL)和衬底(P)之间充有液体(50)，投影光学系统(P)通过液体(50)将图形图像投影在衬底(P)上，对衬底(P)进行曝光。它包括：保持衬底的衬底台(PST)；向投影光学系统的像面侧供给液体的液体供给装置(1)；以及经过液体(50)检测衬底(P)表面的表面信息的聚焦/平整检测系统(14)。曝光装置(EX)根据聚焦/平整检测系统检测(14)的表面信息，一边调整衬底(P)表面与投影光学系统(PL)经过液体(50)形成的像面之间的位置关系一边进行衬底的浸液曝光。能够以良好图案转印精度进行浸液曝光。

主权项

1.一种曝光装置，用于经过液体使衬底曝光将图案像复制在衬底上，其特征在于包括：把图案像投影到衬底上的投影光学系统；保持上述衬底的第1衬底台；在上述投影光学系统的像面一侧供给上述液体的液体供给装置；以及经过液体检测上述衬底表面的表面信息的表面检测系统，根据检测的上述表面信息，一边调整上述衬底表面与上述投影光学系统经过上述液体形成的像面之间的位置关系一边进行上述衬底的浸液曝光。