[发明专利]光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置、涂布装置和光致抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 200380106292.7 | 申请日： | 2003-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN1726435A | 公开（公告）日： | 2006-01-25 |
| 发明（设计）人： | 羽田英夫;岩井武;嵨崎真明;室井雅昭;厚地浩太;富田浩明;尾崎弘和 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;B01D61/14;B01D71/56;B01D71/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有－20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 制造 方法 过滤 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上但不含-20mV、15mV以下的ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社，未经东京应化工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200380106292.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：涂料组合物和涂布基材的方法
- 下一篇：电镀半导体晶片的方法和设备
