[发明专利]滤色片黑色矩阵光阻组合物无效
| 申请号： | 200380106299.9 | 申请日： | 2003-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN1726434A | 公开（公告）日： | 2006-01-25 |
| 发明（设计）人： | 镰田博稔;上条正直;大西美奈 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及(1)一种用于滤色片的黑色矩阵光阻的光敏组合物，其包含(A)具有羧基的粘结剂用树脂，(B)具有烯键式不饱和键的化合物，(C)光致聚合引发剂，(D)具有两个或更多含巯基的基团的、其中在相对于巯基为α位和/或β位的碳原子上具有取代基的硫醇化合物，和(E)有机溶剂，并且具备高灵敏度和优异的储存稳定性；(2)滤色片黑色矩阵光阻，其包含(1)用于滤色片的黑色矩阵光阻的光敏组合物和黑色颜料(F)。 | ||
| 搜索关键词： | 滤色片 黑色 矩阵 组合 | ||
【主权项】：
1.一种用于滤色片的黑色矩阵光阻的光敏组合物，其包含(A)具有羧基的粘结剂用树脂，(B)具有烯键式不饱和键的化合物，(C)光致聚合引发剂，(D)具有两个或更多含巯基的基团的、其中在相对于巯基为α位和/或β位的碳原子上具有取代基的硫醇化合物，和(E)有机溶剂。
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