[发明专利]对具有涂层的处理腔组件进行清洁的方法有效
| 申请号： | 200380106546.5 | 申请日： | 2003-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN1726302A | 公开（公告）日： | 2006-01-25 |
| 发明（设计）人： | H·王;Y·何;C·C·斯托 | 申请（专利权）人： | 应用材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在一种清洁和修整一个具有金属涂层的处理腔组件的方法中，其中金属涂层上具有一个表面，所述金属涂层的表面被浸入一种酸性溶液中，以从所述表面除去至少一部分的处理沉积物。此后，所述金属涂层表面被浸入到一种碱性溶液中，以基本上除去所有的金属涂层。可选地，可对所述组件进行喷丸处理以使所述组件的表面粗糙，并重新形成所述金属涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 涂层 处理 组件 进行 清洁 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清洁处理腔组件的方法，所述组件包括其上具有表面的金属涂层，所述方法包括：(a)将所述金属涂层的表面浸入一种酸性溶液中，以从所述表面除去至少一部分的处理沉积物；并且(b)在(a)之后，将所述金属涂层的表面浸入一种碱性溶液中，以基本除去所有的所述金属涂层。
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